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原裝HORIBA堀場等離子發(fā)射控制器RU-1000 使用反應濺射將觸摸面板和玻璃基板的薄膜沉積在基材上。反應性濺射是在真空中使濺射粒子與氧或氮發(fā)生化學反應來成膜的方法，但定量供給反應氣體的方法會減慢成膜速度，難以實用化。然而，已知存在一種不穩(wěn)定的過渡模式，其中沉積速率在沉積速率快??的反應模式和金屬模式之間變化很大，并且可以通過基于等離子體控制反應氣體來維持過渡區(qū)域排放強度。